Artigo em revistaPublicado
Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-Beam Lithography: An Analysis of Backscattered Electron Distribution
J.P.Sinnecker; Rebello, A. C. M.; RUELA, LUCAS M.; MORETO, GUSTAVO; Naiara Yohanna Klein; MARTINS, ELDUES; I. S. Oliveira; ROUXINOL, FRANCISCO
783 -
Dados da publicação
- Autores
- J.P.Sinnecker; Rebello, A. C. M.; RUELA, LUCAS M.; MORETO, GUSTAVO; Naiara Yohanna Klein; MARTINS, ELDUES; I. S. Oliveira; ROUXINOL, FRANCISCO
- Tipo
- Artigo em revista
- Status
- Publicado
- Data de publicação
- 08/08/2024
- Revista
- Nanomaterials
- Volume
- 14
- Ano
- 2024
- Páginas
- 783 -
- DOI
- http://dx.doi.org/10.3390/nano14090783
- Âmbito
- Internacional
- Indexada no Science Citation Index
- Sim
- Vínculo com tese
- Não
- Vínculo com bolsa
- Não