Nanocristalização de filmes finos à base de FeSiB

Neste trabalho foi investigada uma rota para o desenvolvimento de filmes finos do tipo Finemet. Esses filmes são compostos a base de FeSiB e apresentam uma estrutura homogênea de grãos de α-FeSi com tamanhos da ordem de 10nm a 15nm imersos em uma matriz amorfa magnética. A produção dos filmes nanocristalinos foi feita por tratamento térmico em filmes amorfos compostos por Fe73,5Si13,5B9Nb3Cu1. Os filmes amorfos foram produzidos por “Rf Magnetron Sputtering” e tratados por 1 hora em alto vácuo. As propriedades estruturais e magnéticas dos filmes tratados termicamente e como depositados foram feitas por difração de Raios-X, Magnetômetro de Amostra Vibrante e Microscópio de Força Magnética. Com o tratamento térmico o perfil de Difração de Raios-X exibiu a evolução de uma fase amorfa (com um largo pico centrado em torno do ângulo 2θ≈44,6º) para uma fase cristalizada (com um pico mais fino centrado em torno do mesmo ângulo da fase amorfa). Os cálculos das larguras a meia altura (FWHM) desses picos mostram que os filmes na fase cristalizada exibem grãos da ordem de nanômetros.