Instrumentação para Produção e Caracterização de Filmes Finos Nanoestruturados

Este trabalho trata do desenvolvimento da instrumentação de dois sistemas: (1) Um sistema Magnetron Sputtering para a produção de filmes finos nanoestruturados em multicamadas magnéticas que inclui uma instrumentação para a oxidação in-situ de filmes com Exchange bias (polarização por troca) e spin valves (válvulas de spin). (2) Um magnetrômetro de amostra vibrante para filmes (VSMF) para a caracterização magnética rápida, confiável e barata (comparando com magnetrômetro SQUID) dos fimes finos produzidos pelo sputtering desenvolvido. Complementam o VSMF, a avaliação da relação sinal ruído (SNR), a calibração do equipamento e a medida da sensibilidade máxima que alcança o limite teórico do ruído Johnson (térmico) do sistema (±2 x 10-6emu). As curvas de magnetização versus campo magnético (MxH) de alguns filmes de válvulas de spin são semelhantes aos resultados obtidos em um magnetrômetro de gradiente de campo (AGM). Consta também no trabalho a descrição sucinta da infraestrutura desenvolvida para o laboratório de filmes e de um sistema de medidas de resistividade DC e magneto resistência (MR). Os gráficos de caracterização estrutural, magnética e de transporte de alguns fimes de Co/Cu, NiFe/Cu e NiO/NiFe/Cu/NiFe atestam a repetibilidade e a confiabilidade do sistema de produção desenvolvido.