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Artigo em revistaPublicado

Control and automation of an Opposing Magnetron RF Sputtering system to produce nanometric thin -lms

A. Mello; H. Sendão

20141 - 11

Dados da publicação

Autores
A. Mello; H. Sendão
Tipo
Artigo em revista
Status
Publicado
Data de publicação
2014
Revista
Notas Técnicas do CBPF
Volume
4
Ano
2014
Páginas
1 - 11
DOI
http://dx.doi.org/10.7437/NT2236-7640/2014.04.001
Âmbito
Nacional
Indexada no Science Citation Index
Não
Vínculo com tese
Não
Vínculo com bolsa
Não
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