Nota TécnicaPublicado
Controle e automação de um sistema de Opposing Magnetron RF Sputtering para a produção de filmes finos nanométricos
A. Mello
Dados da publicação
- Autores
- A. Mello
- Tipo
- Nota Técnica
- Status
- Publicado
- Data de publicação
- 13/02/2014
- Descrição
- Este trabalho apresenta o desenvolvimento do controle e automação de um sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica assistida por radio frequência (RFMS) e com magnetrons opostos. Para controlar os sinais das fontes de potência de RF, acopladores de impedância de RF, manômetros absolutos, vacuômetros, bombas de vácuo, válvulas controladoras de gás e válvulas pneumáticas do sistema RFMS foi montada uma interface de hardware e desenvolvido um programa de controle com interface amigável para usuários, através da plataforma computacional LabView da National Instruments. O sistema de controle proposto visa aumentar a reprodutibilidade de filmes finos nanométricos de biomateriais produzidos pelo RFMS.
- Ano
- 2014
- Número
- CBPF-NT-001/14
- Vínculo com tese
- Não
- Vínculo com bolsa
- Não