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Nota de FísicaPublicado

PRODUÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE TiO2 E MgF2 PARA RECOBRIMENTOS ÓTICOS

Marcos de Castro Carvalho; C. L. Ferreira

Dados da publicação

Autores
Marcos de Castro Carvalho; C. L. Ferreira
Tipo
Nota de Física
Status
Publicado
Data de publicação
05/03/2012
Descrição
Múltiplas camadas de filmes finos para recobrimentos ópticos de dióxido de titânio (TiO2) e fluoreto de magnésio (MgF2) foram depositadas pela técnica de evaporação por feixe de elétrons. A temperatura dos substratos foi otimizada e mantida a 250 oC de forma a minimizar a interdifusão entre as camadas constituinte. A taxa de deposição de ambos os materiais foi de 1Å.s-1. As espessuras das camadas depositadas assim como suas ordens foram fundamentais para o sucesso dos recobrimentos óticos. O TiO2 e o MgF2 foram utilizados por apresentarem uma grande diferença entre seus índices de refração, diminuindo assim o numero de camadas necessárias para produzir recobrimentos com excelentes propriedades óticas. Este fato causou uma redução de tempo e custo na fabricação dos dispositivos.
Ano
2012
Número
CBPF-NF-005/12
Vínculo com tese
Não
Vínculo com bolsa
Não
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