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title: "Características dos Filmes de Oxido de Zinco, Produzidos por Magnetron Sputtering Reativo DC, com Diferentes Pressões de Trabalho. • CBPF Index"
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**Nota de Física****Publicado**

# **Características dos Filmes de Oxido de Zinco, Produzidos por Magnetron Sputtering Reativo DC, com Diferentes Pressões de Trabalho.**

**Marcos de Castro Carvalho; E. M. B. Saitovitch**

05/03/2012

[**Baixar PDF **0,4 MB](https://index.cbpf.br/files/publicacao/6ad2a767639f62b11adbba62/pdf) [**Contatar responsável**](mailto:apub@cbpf.br?subject=Caracter%C3%ADsticas%20dos%20Filmes%20de%20Oxido%20de%20Zinco%2C%20Produzidos%20por%20Magnetron%20Sputtering%20Reativo%20DC%2C%20com%20Diferentes%20Press%C3%B5es%20de%20Trabalho.)

## **Dados da publicação**

<dl>

<dt>Autores</dt>
<dd>Marcos de Castro Carvalho; E. M. B. Saitovitch</dd>

<dt>Tipo</dt>
<dd>Nota de Física</dd>

<dt>Status</dt>
<dd>Publicado</dd>

<dt>Data de publicação</dt>
<dd>05/03/2012</dd>

<dt>Descrição</dt>
<dd>Filmes finos de óxido de zinco foram depositados por magnetron sputtering dc em atmosfera reativa a partir do zinco metálico. Os substratos utilizados foram de vidro borosilicato a uma temperatura de 300 oC. A pressão parcial de oxigênio foi de 0,75 mtorr com a pressão de trabalho de 20 - 60 mtorr. Os efeitos de pressão de trabalho na estrutura dos filmes foram estudados sistematicamente através das propriedades ópticas e elétricas dos filmes. Os filmes produzidos foram policristalinas com orientação preferencial (002). A dependência da temperatura da mobilidade Hall indica que os espalhamentos nos contornos dos grãos dos portadores de cargas são predominantes nestes filmes. O filme depositado com a pressão de sputtering de 40 mtorr mostrou uma baixa resistividade elétrica de 8,0x10-2 Ω cm. A transmitância óptica é de 85% (=500 nm) com um “band gap” e 3.27 eV.</dd>

<dt>Ano</dt>
<dd>2012</dd>

<dt>Número</dt>
<dd>CBPF-NF-006/12</dd>

<dt>Vínculo com tese</dt>
<dd>Não</dd>

<dt>Vínculo com bolsa</dt>
<dd>Não</dd>

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