Nota de FísicaPublicado
Características dos Filmes de Oxido de Zinco, Produzidos por Magnetron Sputtering Reativo DC, com Diferentes Pressões de Trabalho.
Marcos de Castro Carvalho; E. M. B. Saitovitch
Dados da publicação
- Autores
- Marcos de Castro Carvalho; E. M. B. Saitovitch
- Tipo
- Nota de Física
- Status
- Publicado
- Data de publicação
- 05/03/2012
- Descrição
- Filmes finos de óxido de zinco foram depositados por magnetron sputtering dc em atmosfera reativa a partir do zinco metálico. Os substratos utilizados foram de vidro borosilicato a uma temperatura de 300 oC. A pressão parcial de oxigênio foi de 0,75 mtorr com a pressão de trabalho de 20 - 60 mtorr. Os efeitos de pressão de trabalho na estrutura dos filmes foram estudados sistematicamente através das propriedades ópticas e elétricas dos filmes. Os filmes produzidos foram policristalinas com orientação preferencial (002). A dependência da temperatura da mobilidade Hall indica que os espalhamentos nos contornos dos grãos dos portadores de cargas são predominantes nestes filmes. O filme depositado com a pressão de sputtering de 40 mtorr mostrou uma baixa resistividade elétrica de 8,0x10-2 Ω cm. A transmitância óptica é de 85% (=500 nm) com um “band gap” e 3.27 eV.
- Ano
- 2012
- Número
- CBPF-NF-006/12
- Vínculo com tese
- Não
- Vínculo com bolsa
- Não