Artículo en revistaPublicado
Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-Beam Lithography: An Analysis of Backscattered Electron Distribution
J.P.Sinnecker; Rebello, A. C. M.; RUELA, LUCAS M.; MORETO, GUSTAVO; Naiara Yohanna Klein; MARTINS, ELDUES; I. S. Oliveira; ROUXINOL, FRANCISCO
783 -
Datos de la publicación
- Autores
- J.P.Sinnecker; Rebello, A. C. M.; RUELA, LUCAS M.; MORETO, GUSTAVO; Naiara Yohanna Klein; MARTINS, ELDUES; I. S. Oliveira; ROUXINOL, FRANCISCO
- Tipo
- Artículo en revista
- Estado
- Publicado
- Fecha de publicación
- 08/08/2024
- Revista
- Nanomaterials
- Volumen
- 14
- Año
- 2024
- Páginas
- 783 -
- DOI
- http://dx.doi.org/10.3390/nano14090783
- Ámbito
- Internacional
- Indexada en el Science Citation Index
- Sí
- Vínculo con tesis
- No
- Vínculo con beca
- No