--- title: "Instrumentação e automação de um sistema de RF magnetron sputtering para produção de recobrimentos nanoestruturados • CBPF Index" description: "CBPF INDEX es el sistema de seguimiento de la producción científica y tecnológica del CBPF. En él se puede obtener la lista de publicaciones de artículos, libros, informes técnicos, etc. de toda la comunidad del CBPF." canonical_url: "https://index.cbpf.br/es/publicacoes/6ad2a767639f62b11adbd7f3" locale: es meta: "og:description": "CBPF INDEX es el sistema de seguimiento de la producción científica y tecnológica del CBPF. En él se puede obtener la lista de publicaciones de artículos, libros, informes técnicos, etc. de toda la comunidad del CBPF." "og:image": "https://index.cbpf.br/_og/d/c_Item%2Ctitulo_~SW5zdHJ1bWVudGHDp8OjbyBlIGF1dG9tYcOnw6NvIGRlIHVtIHNpc3RlbWEgZGUgUkYgbWFnbmV0cm9uIHNwdXR0ZXJpbmcgcGFyYSBwcm9kdcOnw6NvIGRlIHJlY29icmltZW50b3MgbmFub2VzdHJ1dHVyYWRvcw%2Ctipo_~VGVzaXMgZGUgbWFlc3Ryw61h%2Ccor_~IzdhM2E5OQ%2Cautores_~V2FsdGVuY2lyIGRvcyBTYW50b3MgQW5kcmFkZTsgUi4gTC4gU29tbWVy%2Cdetalhe_~MjQvMDIvMjAxNA%2Csecao_Publicaciones%2Cp_Ii9lcy9wdWJsaWNhY29lcy82YWQyYTc2NzYzOWY2MmIxMWFkYmQ3ZjMi%2Cs_tZbakiw26JRqOwjV.png" "og:image:height": "600" "og:image:type": image/png "og:image:width": "1200" "og:title": "Instrumentação e automação de um sistema de RF magnetron sputtering para produção de recobrimentos nanoestruturados • CBPF Index" "twitter:image": "https://index.cbpf.br/_og/d/c_Item%2Ctitulo_~SW5zdHJ1bWVudGHDp8OjbyBlIGF1dG9tYcOnw6NvIGRlIHVtIHNpc3RlbWEgZGUgUkYgbWFnbmV0cm9uIHNwdXR0ZXJpbmcgcGFyYSBwcm9kdcOnw6NvIGRlIHJlY29icmltZW50b3MgbmFub2VzdHJ1dHVyYWRvcw%2Ctipo_~VGVzaXMgZGUgbWFlc3Ryw61h%2Ccor_~IzdhM2E5OQ%2Cautores_~V2FsdGVuY2lyIGRvcyBTYW50b3MgQW5kcmFkZTsgUi4gTC4gU29tbWVy%2Cdetalhe_~MjQvMDIvMjAxNA%2Csecao_Publicaciones%2Cp_Ii9lcy9wdWJsaWNhY29lcy82YWQyYTc2NzYzOWY2MmIxMWFkYmQ3ZjMi%2Cs_tZbakiw26JRqOwjV.png" --- > Index of every page on this site: [llms.txt](https://index.cbpf.br/llms.txt) **Tesis de maestría****Defendida** # **Instrumentação e automação de um sistema de RF magnetron sputtering para produção de recobrimentos nanoestruturados** **Waltencir dos Santos Andrade; R. L. Sommer** 24/02/2014 [**Descargar PDF **5,2 MB](https://index.cbpf.br/files/publicacao/6ad2a767639f62b11adbd7f3/pdf) [**Contactar al responsable**](mailto:denise@cbpf.br?subject=Instrumenta%C3%A7%C3%A3o%20e%20automa%C3%A7%C3%A3o%20de%20um%20sistema%20de%20RF%20magnetron%20sputtering%20para%20produ%C3%A7%C3%A3o%20de%20recobrimentos%20nanoestruturados) ## **Resumen** Este trabalho apresenta o desenvolvimento do controle e automação de um sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica assistida por radio frequência (RFMS) com geometria de magnetrons opostos, também conhecido como RAMS (Right Angle Magnetron Sputtering). O sistema de controle proposto visa aumentar a reprodutibilidade de filmes finos de biomateriais como a hidroxiapatita produzidos por RAMS. Uma sonda de Langmuir foi construída e também automatizada para caracterizar a energia do plasma gerado durante o processo de sputtering, correlacionando as medidas de temperatura efetiva dos elétrons (Teff) e densidade de elétrons (ne) com a estequiometria química e estrutura cristalográfica dos filmes produzidos. O programa de controle da sonda foi integrado ao programa de controle do sistema de deposição. Este pacote de software foi denominado de RAMS Control System. A taxa de deposição é um parâmetro de entrada do programa RAMS. Esta taxa é calibrada para um material alvo específico, em um processo de sputtering submetido a uma predeterminada condição experimental. Para otimizar a obtenção deste parâmetro foi desenvolvido o programa XRR Easy Thickness que analisa curvas de refletividade de raios-x (XRR) medidas em filmes finos, determinando sua espessura e taxa de deposição de forma rápida e segura. Para testar o controle e automação do sistema RAMS foram depositados filmes nanométricos de hidroxiapatita, variando-se a distância catodo-substrato. Os filmes obtidos apresentaram uma variação de espessura dentro do erro experimental de ±0, 5nm, atestando a reprodutibilidade do sistema desenvolvido. Pelo correto ajuste da energia do plasma em 6eV foi possível a produção de filmes nanométricos cristalinos de HAP por RAMS, a temperatura ambiente, sem a necessidade de tratamentos térmicos posteriores, conforme verificado nos difratogramas de raios-x. Os resultados adequados de temperatura de elétrons Teff = 11, 8eV e densidade de elétrons ne = 2, 0 ・ 1015m−3 foram obtidos a partir das medidas da sonda de Langmuir. Este trabalho gerou uma publicação em Notas Técnicas do CBPF, duas patentes de software registradas no INPI e uma publicação internacional em revista indexada de alto impacto. ## **Datos de la publicación**
Autores
Waltencir dos Santos Andrade; R. L. Sommer
Tipo
Tesis de maestría
Estado
Defendida
Fecha de publicación
24/02/2014
Institución
CBPF
Fecha de defensa
24/02/2014
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