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Nota TécnicaPublicado

Controle e automação de um sistema de Opposing Magnetron RF Sputtering para a produção de filmes finos nanométricos

A. Mello

Datos de la publicación

Autores
A. Mello
Tipo
Nota Técnica
Estado
Publicado
Fecha de publicación
13/02/2014
Descripción
Este trabalho apresenta o desenvolvimento do controle e automação de um sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica assistida por radio frequência (RFMS) e com magnetrons opostos. Para controlar os sinais das fontes de potência de RF, acopladores de impedância de RF, manômetros absolutos, vacuômetros, bombas de vácuo, válvulas controladoras de gás e válvulas pneumáticas do sistema RFMS foi montada uma interface de hardware e desenvolvido um programa de controle com interface amigável para usuários, através da plataforma computacional LabView da National Instruments. O sistema de controle proposto visa aumentar a reprodutibilidade de filmes finos nanométricos de biomateriais produzidos pelo RFMS.
Año
2014
Número
CBPF-NT-001/14
Vínculo con tesis
No
Vínculo con beca
No
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