Nota de FísicaPublicado
PRODUÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE TiO2 E MgF2 PARA RECOBRIMENTOS ÓTICOS
Marcos de Castro Carvalho; C. L. Ferreira
Datos de la publicación
- Autores
- Marcos de Castro Carvalho; C. L. Ferreira
- Tipo
- Nota de Física
- Estado
- Publicado
- Fecha de publicación
- 05/03/2012
- Descripción
- Múltiplas camadas de filmes finos para recobrimentos ópticos de dióxido de titânio (TiO2) e fluoreto de magnésio (MgF2) foram depositadas pela técnica de evaporação por feixe de elétrons. A temperatura dos substratos foi otimizada e mantida a 250 oC de forma a minimizar a interdifusão entre as camadas constituinte. A taxa de deposição de ambos os materiais foi de 1Å.s-1. As espessuras das camadas depositadas assim como suas ordens foram fundamentais para o sucesso dos recobrimentos óticos. O TiO2 e o MgF2 foram utilizados por apresentarem uma grande diferença entre seus índices de refração, diminuindo assim o numero de camadas necessárias para produzir recobrimentos com excelentes propriedades óticas. Este fato causou uma redução de tempo e custo na fabricação dos dispositivos.
- Año
- 2012
- Número
- CBPF-NF-005/12
- Vínculo con tesis
- No
- Vínculo con beca
- No