Technical NotePublished
Controle e automação de um sistema de Opposing Magnetron RF Sputtering para a produção de filmes finos nanométricos
A. Mello
Publication details
- Authors
- A. Mello
- Type
- Technical Note
- Status
- Published
- Publication date
- 13/02/2014
- Description
- Este trabalho apresenta o desenvolvimento do controle e automação de um sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica assistida por radio frequência (RFMS) e com magnetrons opostos. Para controlar os sinais das fontes de potência de RF, acopladores de impedância de RF, manômetros absolutos, vacuômetros, bombas de vácuo, válvulas controladoras de gás e válvulas pneumáticas do sistema RFMS foi montada uma interface de hardware e desenvolvido um programa de controle com interface amigável para usuários, através da plataforma computacional LabView da National Instruments. O sistema de controle proposto visa aumentar a reprodutibilidade de filmes finos nanométricos de biomateriais produzidos pelo RFMS.
- Year
- 2014
- Number
- CBPF-NT-001/14
- Linked to a thesis
- No
- Linked to a grant
- No